技術(shù)文章
使用BTX電融合緩沖液應注意:
1、保持無(wú)菌環(huán)境。建議使用標準的無(wú)菌技術(shù),以避免在使用過(guò)程中受到污染。
2、反復洗滌。BTXpress Cytofusion Medium C是一種低電導率培養基,專(zhuān)為電融合而設計。痕量的高電導率溶液如PBS或組織培養生長(cháng)培養基可破壞融合過(guò)程。因此,在融合過(guò)程之前用BTXpress Cytofusion Medium C*清洗細胞是很重要的。
3、清潔電融合室。為避免其他離子污染源,每次使用后清潔電熔室,并用無(wú)菌去離子水*沖洗。
4、室溫電融合。為了大限度地提高細胞融合效率,請在室溫下使用BTXpress Cytofusion Medium C. 終洗滌之前的細胞洗滌可以在4℃下進(jìn)行。
5、較大限度地減少緩沖區的時(shí)間。雖然Cytofusion Medium C無(wú)毒,但它不含有*支持細胞活力的營(yíng)養素。為了獲得宜結果,大限度地減少細胞懸浮在BTXpress Cytofusion培養基C中的時(shí)間。不建議細胞在終清洗后超過(guò)1小時(shí)保留在BTXpress Cytofusion Medium C中。
6、5:1直接稀釋。電融合后,BTXpress Cytofusion培養基C中的細胞可以在細胞培養基中稀釋而不洗滌細胞。將五份*培養基稀釋至一份BTXpress Cytofusion Medium C的小稀釋度?;蛘?,可以在生長(cháng)培養基中洗滌細胞以在培養之前*除去BTXpress Cytofusion培養基C。